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使用Calibre工具实现EB处理

消耗积分:2 | 格式:rar | 大小:122 | 2010-06-16

张磊

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芯片版图设计完成后，必须将设计数据转换成 EB 数据以制造掩模版。为了
提高芯片的规模和集成度，降低成本，芯片越来越采用更小尺寸的工艺来制造，
但更小尺寸的制造工艺同时也必须考虑更多的问题。当前的深亚微米半导体制造
工艺对于芯片设计层次（GDSII layer）到掩模版层次（mask layer）的转换规则
（EB Processing Rule）日趋复杂。目前几乎所有的芯片代工厂都会将客户的
layout 数据转换成EB 数据。然而GDSII layer 到mask layer 的转换往往工作量巨
大，EB 规则复杂时不易实现，增加了流片失败的风险。在应用中，我们发现
Mentor Graphics 公司的Calibre 工具可以很好的解决这些问题，能够完全依据EB
规则将GDSII layer 形式的设计数据转换成mask layer 形式的数据。本文将简要介
绍如何使用Calibre 解决GDSII 层次转换问题，实现设计数据到EB 数据的自动转
换。
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