搜索内容
登录
光刻
7人关注
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
...展开
264
文章
32
视频
5
帖子
30194
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
帖子
视频
光刻掩膜技术介绍
2025-01-02
120阅读
ALE光刻曝光光源与常见矩阵式LED光源性能对比
2024-12-23
94阅读
正性光刻对掩膜版的要求
2024-12-20
187阅读
IC载板制造商需要了解的光刻技术信息
2024-12-05
150阅读
接触孔工艺的制造流程
2024-11-15
418阅读
栅氧化层工艺的制造流程
2024-11-05
388阅读
有源区工艺的制造过程
2024-10-31
293阅读
顶层金属工艺是指什么
2024-10-29
309阅读
金属层2工艺是什么
2024-10-24
286阅读
光刻掩膜和光刻模具的关系
2024-10-14
266阅读
光掩膜基版在光刻中的作用
2024-10-09
356阅读
光刻掩膜版制作流程
2024-09-14
671阅读
芯片光刻掩膜的保存方法
2024-09-04
281阅读
Line Edge Roughness (LER) 线边缘粗糙度
2024-08-23
2421阅读
什么是光刻掩膜版保护膜？
2024-08-16
482阅读
微流控光刻掩膜版的介绍及作用
2024-08-15
635阅读
微流控光刻掩膜制作
2024-08-08
304阅读
VCSEL激光在蚀刻和光刻中的应用与前景
2024-08-01
425阅读
SkyWater投资MEBL
2024-07-30
293阅读
晶圆制造工艺流程及一些常用名词解释
2024-07-30
1566阅读
上一页
1
/
16
下一页
相关推荐
更多 >
IOT
海思
STM32F103C8T6
数字隔离
硬件工程师
wifi模块
74ls74
MPU6050
Protues
UHD
STC12C5A60S2
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
