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用于紫外发光二极管的碳化硅上的氮化铝镓

消耗积分:0 | 格式:pdf | 大小:0.26 MB | 2023-02-21

陈飞

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一直在使用碳化硅(碳化硅)衬底生长氮化铝(AlGaN)结构,针对278nm深紫外(UV-C,100-280nm波长)发光二极管(LED)。使用 薄膜翻转芯片设备的表面粗糙化,使光提取效率(LEE)比光滑表面的LED提高了3倍。在低TDD[线程位错密度]的碳化硅上生长 AlGaNLEd的能力为制造高亮度、高LEE的高亮度、高功率UVled开辟了新的方法。260-280nm的波长范围通过破坏病原体的 DNA和RNA分子实现有效消毒。
热衷于对抗耐抗生素的细菌,如艰难梭菌(C。差异。),这种方法确实很难用化学方法来杀死。相比之下,紫外线消毒减少了 碳菌的差异。由于许多因素,制造高效的UV-cled一直具有挑战性。材料质量可以通过使用碳化硅而不是蓝宝石,由于更紧密 的晶格和热膨胀匹配。然而,与蓝宝石不同的是,由于UV-C光的带隙较窄,它被碳化硅强烈吸收。事实上,蓝宝石经常被用 于uv-cled。

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