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磁控溅射WO3薄膜特性研究

消耗积分:2 | 格式:rar | 大小:167 | 2009-06-30

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用磁控溅射法制成WO3 薄膜,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3 薄膜的性能. 利用XRD
分析了样品的粒径大小,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响. 结果表明,薄膜中WO3 晶粒的平均尺寸为17 nm ,该传感器对NOx 气体有非常好的灵敏度和选择性,对体积分数为1 ×10 - 5的NOx 气体灵敏度高于50 倍,而对其他干扰气体的灵敏度小于2 倍.
关键词:磁控溅射;氧化钨;氧化氮;薄膜
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