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VDMOS功率器件用硅外延片

消耗积分:5 | 格式:rar | 大小:444 | 2009-12-21

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VDMOS功率器件用硅外延片:1973 年美国IR 公司推出VDMOS 结构,将器件耐压、导通电阻和电流处理能力提高到一个新水平。功率VDMOS 管是在外延片上制作的,由于一个管芯包括几千个元胞,故要求线条细,光刻精度高。所以对外延片的电阻率均匀性要求高,对外延片表面的平整度和颗粒度要求也高,我公司的产品是为了功率VDMOS 管专门研制开发的。
2、创新性和先进性
功率 VDMOS 管用硅外延片系我公司与器件生产厂家密切配合,自主开发的新产品,属于原始创新。功率VDMOS 是一种电压控制型单极晶体管,它是通过栅极电压来控制漏极电流的,因而它的一个显著特点是驱动电路简单、驱动功率小; 仅由多数载流子导电,无少子存储效应,高频特性好,工作频率高达100kHz 以上,为所有电力电子器件中频率之最,因而最适合应用于开关电源、高频感应加热等高频场合;没有二次击穿问题,安全工作区广,耐破坏性强。它采用超大规模集成电路的精细加工技术,用N/N+外延结构,因此对外延片的有特殊的要求和标准。

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